试题详情
- 单项选择题一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()
A、不做处理,让患者把义齿戴走
B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
C、腭杆组织面缓冲
D、取下腭杆
E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
关注下方微信公众号,在线模考后查看

热门试题
- 侧腭杆与相邻牙龈的距离为()
- 女.27岁,一缺失,固定义齿修复两个月后
- 牙体缺损修复时,材料的选择和修复设计取决
- 关于固定桥的说法,错误的是()
- 对于贴面修复时牙体表面酸蚀处理,说法正确
- 以下不属于增加桩固位的措施是()
- 在恢复牙体缺损患牙面形态时,必须根据患牙
- 以下哪一项不是全口义齿初戴时出现疼痛的原
- 无牙颌牙槽嵴严重吸收的患者易采用()
- 全冠修复步骤中不可能对牙龈造成危害的是(
- 下列关于嵌体洞斜面的描述中,错误的是()
- 可摘局部义齿的固位体必须具备以下条件,除
- 全口义齿初戴时,产生疼痛的原因不包括()
- 患者男,42岁,缺失,固定义齿修复最佳设
- 远中游离缺失时使用近中支托比使用远中支托
- 不必做缓冲的部位是()
- 后腭杆的宽度约为()
- 全口义齿的前牙要枚举成浅覆合,浅笼盖的原
- 男。41岁。缺失,余留牙健康,如制作可摘
- 下面关于舌杆的描述,不正确的是()