试题详情
- 单项选择题
面发育沟常跨过近中边缘嵴到达近中面的牙是() A、

B、替代Ⅳ的牙
C、

D、

关注下方微信公众号,在线模考后查看

热门试题
- 全冠龈上边缘的缺点是()
- 患者戴全口义齿后1周复诊,诉牙床疼痛无法
- 下列哪项不是进行桩冠修复的必要前提()
- 参与口腔特异性免疫应答的细胞是()
- 关于PFM冠金瓷结合机制不正确的是()
- 嵌体洞各轴壁要求()
- 基台的穿龈高度应为()
- 前腭杆的厚度约为()
- 患者,女,20岁,1年前因外伤致上前牙缺
- 用于确定水平颌位关系的方法是()
- 与后腭杆相比,前腭杆的特点是()
- 15号标准根管锉的锉尖直径和刃部末端直径
- 设计修复体龈缘位置不需要考虑的因素是()
- 患者女,30岁,上颌后牙烤瓷冠脱落1天就
- 多根牙的牙周膜附着面积最大的部位是()
- 正常的龈沟深度为()
- 缺失患者,剩余牙槽嵴低,口底及前庭沟深,
- 金瓷冠可用于()
- 修复体的固位力不包括()
- 无牙颌患者戴全口义齿时发现,吸附力良好,