试题详情
- 多项选择题原料药生产设备的清洁应当符合的要求为()。
A、同一设备连续生产同一原料药或阶段性生产连续数个批次时,宜间隔适当的时间对设备进行清洁,防止污染物(如降解产物.微生物)的累积
B、如有影响原料药质量的残留物,更换批次时,必须对设备进行彻底的清洁
C、非专用设备更换品种生产前,必须对设备(特别是从粗品精制开始的非专用设备)进行彻底的清洁,防止交叉污染
D、对残留物的可接受标准.清洁操作规程和清洁剂的选择,应当有明确规定并说明理由
关注下方微信公众号,在线模考后查看

热门试题
- 无菌药品生产配制后的消毒剂和清洁剂应当存
- 药品生产企业对召回的药品需要销毁时是否可
- 工艺验证方案应当报告产品放行的质量()。
- 特殊药品生产厂房的要求是什么?
- 合格物料的色标是()。
- GMP的中心指导思想是什么?
- ()、()、待包装产品和成品必须按照质量
- 企业可以根据变更的(),将变更分为主要、
- 制剂的工艺规程的内容至少应当包括什么?
- 省级以上人民政府卫生行政部门应当指定有关
- 企业应当建立纠正措施和预防措施系统,对投
- 确保完成自检是谁的职责?
- GMP规定不合格的制剂中间产品、待包装产
- 设备的()和()不得影响产品质量。
- 企业委托外部实验室进行检验的,应该在()
- ()或手套系统应当进行常规监测,包括经常
- 监督厂房和设备的维护,以保持其良好的运行
- 仿制药品有什么要求?
- 应当根据已有的生产工艺、设施和设备的相关
- 与药品直接接触的()应当平整、光洁、易清