试题详情
- 单项选择题离子源腔体中的气体放电形成（）而引出正离子的。
A、等离子体
B、不等离子体
C、正离子体
D、液电流
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 局域网中使用中继器的作用是（）。
- 溅镀法，因为其阶梯覆盖的能力不良，很容易
- 总结焊接温度与加热时间如何掌握。时间不足
- 离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（
- 半导体芯片生产中，离子注入主要是用来（）
- 沾污引起的电学缺陷引起（），硅片上的管芯
- 对集成电路封装形式进行小结，并收集信息是
- TCP/IP协议中的TCP相当于OSI中
- （）由钟罩、蒸气源加热器、衬底加热器、活
- 在IC芯片生长中浅沟槽隔离技术STI逐渐
- 离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。
- 干氧氧化法有一些优点，但同时它的缺点有（
- 浸焊机是如何分类的？各类的特点是什么？
- 在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比
- 用电容－电压技术来测量扩散剖面分布是用了
- 电位器有哪些类别？有哪些技术指标？如何选
- 有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。
- 试叙述焊接操作的正确姿势是什么？
- 在半导体工艺中，如果淀积的薄膜不是连续的
- 试总结电子元器件大致分为几代；对电子元器