试题详情
- 单项选择题光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。
A、150－200℃
B、200℃左右
C、250℃左右
D、300℃左右
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 电容器有哪些技术参数？哪种电容器的稳定性
- 当注入剂量增加到某个值时，损伤量不再增加
- 采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是
- 电子工艺学有哪些特点？
- 电子产品生产的主要工艺流程是怎样的？
- 扩散炉中的管道一般都是用（）制作。
- 光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。
- 磁性材料分为哪两类？铁氧体磁性材料的性能
- 简述插接线工艺文件的编制原则。
- 检验水中是否有盐酸，可用（）溶液滴入水中
- 请用四色环标注出电阻：6.8kΩ±5％，
- 早期，研究离子注入技术是用（）来进行的。
- 离子源产生的离子在（）的加速电场作用下得
- 下列材料中电阻率最低的是（）。
- 离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。
- 硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳
- 电子产品的工艺文件有哪些种类？有什么作用
- 离子散射方向与入射方向的夹角，称为（）。
- Torr是指（）的单位。
- 以（）等两层材料所组合而成的导电层便称为