试题详情
- 单项选择题Torr是指()的单位。
A、真空度
B、磁场强度
C、体积
D、温度
关注下方微信公众号,在线模考后查看

热门试题
- 扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散
- 试分析表面安装元器件有哪些显著特点。
- 多晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对()的高选
- 半导体硅常用的施主杂质是()。
- 早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
- 离子注入的主要气体源中,易燃、易爆的有(
- 在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。
- 买来的新树脂往往是Na型或Cl型,新树脂
- 请总结检修SMT电路板常用工具的种类及用
- ESD产生()种不同的静电总类。
- 硅烷的分子式是()。
- 离子源腔体中的气体放电形成()而引出正离
- 示波管主要由哪几部分组成?对示波管的要求
- 如果磷在二氧化硅中扩散,对扩散率影响最大
- 离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成(
- 请总结常用导线和绝缘材料的类型、用途及导
- 静电释放带来的问题有哪些()。
- 硅晶片上之所以可以产生薄膜,出始于布满在
- 请说明集成电路DIP封装结构具有哪些特点
- 大硅片上生长的()的不均匀和各个部位刻蚀