试题详情
- 简答题射频放电与直流放电相比有何优点？
关注下方微信公众号，在线模考后查看
热门试题
- 简述APCVD、LPCVD、PECVD的
- 什么是固相外延（SPE）及固相外延中存在
- 光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？
- 描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。
- 给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模
- 简述电子束光刻的光栅扫描方法和矢量扫描方
- 根据原理分类，干法刻蚀分成几种？各有什么
- 例出典型的硅片湿法清洗顺序。
- 例举并描述金属用于硅片制造的7种要求。
- 说明SiO2的结构
- 假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散，从
- 描述RF溅射系统。
- 典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的
- 例举并解释5个进行在线参数测试的理由。
- 什么叫集成电路？写出集成电路发展的五个时
- 热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关
- 什么是特征尺寸CD？
- 写出IC制造的5个步骤。
- 简述几种典型真空泵的工作原理。
- 简述几种常用的氧化方法及其特点。